k-Space社はMBE、スパッタ装置、PVD、MOCVD、MOVPEなどの薄膜蒸着装置の基板、薄膜表面のin-situ測定システムの設計、製造、販売を目的として米国ミシガン州に1992年に設立されました。 kSA400 RHEED 解析システム スタティックなデータ取得や分析だけでなく、リアルタイムデータの分析や 解析も可能です。 結晶格子間隔、原子間距離、ひずみ変化、成長率、膜厚、 コヒレンスレングスなどの情報をマウスで簡単に得られます。 kSA400は、お客様のRHEED（高速反射電子回折）パターンからあらゆる情報を 引き出し解析できるよう開発されました。静的回折パターンについてのみでなく、 高速基板回転中であっても素早く完全な結果が得られます。当システムは、産業標準規格に 準拠しています。 12ビットCCDカメラ(50フレーム/秒)、フランジマウント、 ワークステーションコンピュータ、ＴＦＴディスプレーから構成されています。 kSA MOS リアルタイム基板ひずみモニター kSA MOS (マルチビーム・オプティカル・センサー) は、基板のひずみを リアルタイムモニターすることが可能なシステムです。 測定は2D平行配列ビームによる サンプル照射、CCDカメラによるビーム位置の測定、取得画像のビーム間距離変化を見て 薄膜にかかる応力、ひずみ、膜厚、成長レートを測定します。薄膜へのストレスは基板の ひずみを引き起こします。 MOSシステムはMOCVD、MBE等の基板上の薄膜にビームをあて、その偏光をモニターし 光学的にひずみを測定します。研究・開発のみならず、製造プロセスにおいても 薄膜作成過程をリアルタイムモニターするシステムとして使用できます。 kSA Bandi T リアルタイムウェハ温度モニター kSA BandiTは全波長を同時に取得可能な最新高感度分光計により、Si・GaN・GaAs・ ZnO・ZnSe・ZnTe・SiC・InP・CdTe・CdSe 等の半導体材質のウェハ温度を高精度に リアルタイムでモニターする ことが可能なシステムです。 チャンバー内設置部品が無く、非接触で光学的に低温から高温まで材料の 各バンドギャップ範囲に合わせて温度測定します。 当システムは、ライトソース、ディテクター、および分光計から構成 されています。 kSA RateRat Pro 蒸着レートモニター＆コントロール kSA RateRat Proは、MOCVD・MBE・スパッタリング等において、リアルタイムで 蒸着レートのモニター及びコントロールができるシステムです。 蒸着率・膜厚・光学定数を先進のプロセスコントロールソフトウェアで リアルタイム計算し、 複雑な多層膜でも、容易に正確な蒸着レートの モニターが可能です。 当システムは薄膜蒸着中の反射データを取得するために658nm (オプションで407nm)の レーザー(蒸着する材質により選択)、高速フォトディテクタ、高速16ビットデータ取得ボード、 レーザーモジュレータ (変調器)から構成されています。 アプリケーションノート トーマス・スワン MOCVDへのインストール例 (GaN)